Hidrotermal Metotla Katkılı/katkısız Zinc Oksit Şeffaf İletken İnce Film Üretimi

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Ankara Yıldırım Beyazıt Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü, Metalurji Ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2021

Tezin Dili: İngilizce

Öğrenci: Ahmet Yiğit KURTULUŞ

Eş Danışman: ABDULLAH YILDIZ, MEHMET FATİH ÖKTEM

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu çalışmada, katkısız ve W katkılı ZnO nanoyapıları (NY'ler) hidrotermal yöntemle cam yüzeyler üzerinde sentezlenmiştir. Sentez ve W-katkısı sırasında kullanılan sıcaklığın (75-125oC) NY'lerin yapısal, morfolojik, optik ve elektriksel özellikleri üzerindeki etkileri incelenmiştir. Raman spektrumları, sırasıyla ~100, 330 ve 435 cm-1 civarında üç net fonon modunun mevcut olduğunu ve asimetri oranının hem sıcaklığa hem de W-katkısına duyarlı olduğunu göstermektedir. Görünür bölgede, 100oC'de büyütülen NY'ler, diğerleri arasında nispeten daha yüksek olan, %85.73'lük bir ortalama geçirgenlik sergiler. ZnO'ya W-katkısının tabaka direncinde önemli bir düşüşe yol açması ilginçtir. Görünür bölgede mütevazı bir geçirgenliği birleştiren W katkılı ZnO NY'ler, gelecek vaat eden şeffaf bir iletken oksit görevi görebilir ve geçirgenlik ile levha direnci arasında iyi bir denge göstermektedir.Bu da başarım ölçüsünde dikkate değer bir artışa yol açar.