Controlled gradual and local thinning of free-standing nanometer thick Si3N4 films using reactive ion etch

Guzel F., Pitchford W. H., Kaur J.

Microsystem Technologies, cilt.26, sa.4, ss.1167-1172, 2020 (SCI-Expanded, Scopus)

  • Yayın Türü: Makale / Tam Makale
  • Cilt numarası: 26 Sayı: 4
  • Basım Tarihi: 2020
  • Doi Numarası: 10.1007/s00542-019-04645-3
  • Dergi Adı: Microsystem Technologies
  • Derginin Tarandığı İndeksler: Science Citation Index Expanded (SCI-EXPANDED), Scopus, Academic Search Premier, PASCAL, Applied Science & Technology Source, Compendex, Computer & Applied Sciences, INSPEC
  • Sayfa Sayıları: ss.1167-1172
  • Ankara Yıldırım Beyazıt Üniversitesi Adresli: Evet